行业领域：制造业 —— 其他制造业
专利类型： 发明专利
专利信息： 专利技术
专利号： CN201210103398.2
成熟度： 正在研发
技术合作方式： 完全转让
技术推广方式： 正在技术推广
技术交易价格： 面议
联系人：方女士
联系方式：13957007799
技术成果发布数：344
邮箱：sckjdsc@163.com
成果内容简介
本发明提供一种用于光刻机浸没控制装置，该装置为在投影透镜组末端元件和硅片间设置的浸没控制装置，所述的浸没控制装置包括：盖板、外构件、内构件，盖板为环形板，其上由中心向外沿径向依次开有注液口、出液口、进气口；外构件为带有阶梯形状的环形板； 内构件为环形版，其外侧为阶梯形状，内侧为与投影物镜末端元件形状相匹配的锥形，其下部沿径向向外依次开有：出液下环槽、环形均压槽，其上部沿径向向外依次开有扇形槽、注液孔、出液上环槽，其中出液上环槽与出液下环槽通过均布的通孔连接。
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