行业领域:制造业 —— 其他制造业
专利信息: 非专利技术
成熟度: 已有样品
技术合作方式: 完全转让 许可转让
技术推广方式: 正在技术推广
技术交易价格: 面议
联系人:方志仙
联系方式:13957007799
技术成果发布数:1481
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适用范围
用于制备大型主镜的膜层。
成果内容简介
现有技术的问题:采用磁控溅射保护膜由于设备的限制,不易得到推广,等离子体聚合保护膜由于存在着极大的随机性以及膜层附着等都有很大的缺陷,使得其难以成为合适的保护膜。
向下热蒸发介质保护膜的制备方法,包括:1、一氧化硅(SiO)蒸发材料装载于钼蒸发舟中,加热升华后蒸发;所述的钼蒸发舟由主体一、主体二和隔热层三部分组成;2、采用自上向下的热蒸发方法,一氧化硅(SiO)气体运动方向朝下;3、一氧化硅(SiO)气体运动于高纯氮气环境中,相互作用生成含有 Si、O、N 的物质 SiOxNy;4、氮化后的 SiOxNy 碰撞并粘附到下方玻璃基板表面,堆积形成保护膜层,该保护膜层为无色介质膜层,通过此方法能够对大型主镜进行介质保护膜层自上向下方式的制备。
本发明提供的方法只需要加热就可以实现,结构简单、成本低廉,用途广泛,可大大延长大型主镜反射膜的服务寿命。