行业领域：制造业 —— 其他制造业

专利信息： 非专利技术

成熟度： 已有样品

技术合作方式： 完全转让 许可转让

技术推广方式： 正在技术推广

技术交易价格： 面议

联系人：方志仙

联系方式：13957007799

技术成果发布数：1481

邮箱：794379728@qq.com

适用范围

该成果属于衍射光学元件领域。    

成果内容简介

      现有技术的问题：在超高光刻分辨力的条件下，如何增大焦深，已成为这种光刻方法的关键问题。
      本发明提供一种长焦深光子筛，包括：透光衬底和镀在该透光衬底上的不透光金属薄膜， 不透光金属薄膜上分布有多个透光圆孔，该透光圆孔呈环带状分布，分布原则为 rn2＝2nfn λ+n2λ2，其中 rn 为环带半径，n 为圆孔所在环带的环数，最内环为第一环，n∈{1，2，…， Max}，Max 为最大环带数；fn 为第 n 环所对应的焦距；λ为波长。其中对应 rn 上的透光孔的直径为其中 dn 为透光孔的直径；wn 为环带宽度；λ为波长；fn 为第 n 环所对应的焦距； rn 为环带半径。
      本发明在不降低光子筛分辨力和提高加工难度的情况下，本设计方法，可以有效的增大焦深，为光子筛直写光刻的实施奠定基础。