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阴极真空电弧源薄膜沉积装置及沉积薄膜的方法

作者:Admin 发布时间:2021年06月30日15:11:45 681次浏览
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阴极真空电弧源薄膜沉积装置及沉积薄膜的方法

行业领域:制造业 —— 其他制造业

专利类型: 发明专利

专利信息: 专利技术

专利号: 201010135514.X

成熟度: 通过小试

技术合作方式: 其他

技术推广方式: 正在技术推广

技术交易价格: 面议

联系人:周培武

联系方式:13819242525

技术成果发布数:2407

邮箱:xiehongw@126.com

成果内容简介

本发明公开了一种阴极真空电弧源薄膜沉积装置,包括具有高速传输等离子与有效过滤宏观大颗粒的磁性过滤部分,该磁性过滤部分包括管体与设置在管体外部周缘的磁场产生器,管体入口端面与管体出口端面之间至少有一个弯管,并且该弯管两侧管体的轴线之间的夹角为135°;管体出口处设置输出线圈,输出线圈的外侧周缘均匀设置四个与输出线圈互相垂直的扫描线圈,扫描线圈连接有扫描线圈交流电源。与现有技术相比,本发明的阴极真空电弧源薄膜沉积装置不仅能够有效过滤宏观大颗粒、高速传输等离子体,提高薄膜沉积速率,而且能够改变薄膜沉积面积和均匀性。    

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