行业领域：制造业 —— 其他制造业

专利类型： 发明专利

专利信息： 专利技术

专利号： CN200910081459.8

成熟度： 已有样品

技术合作方式： 完全转让 许可转让

技术推广方式： 正在技术推广

技术交易价格： 面议

联系人：方志仙

联系方式：13957007799

技术成果发布数：1670

邮箱：794379728@qq.com

应用行业领域

新材料-膜材料。    

适用范围

太阳能电池。   

成果内容简介

一种用于薄膜太阳电池的陷光结构，其基本特征在于这种陷光结构处在太阳电池光吸收区的背光面，从太阳电池光吸收区一侧开始依次包括衍射光栅 1，分布布拉格反射器(DBR)2 和金属反射器 3。衍射光栅 1 提高光的衍射效率，DBR2 和金属反射器 3 共同提高光的反射率。金属反射器 3 的存在一方面极大的提高了所述结构的陷光效率，一方面可以减少 DBR 的对数，使这种陷光结构更容易制作。在DBR2 和金属反射器 3 之间可以进一步含有介质缓冲层 4。