行业领域：信息传输、软件和信息技术服务业 —— 科技推广和应用服务业

专利信息： 非专利技术

成熟度： 已有样品

技术合作方式： 合作生产 其他

技术推广方式： 正在技术推广

技术交易价格： 面议

联系人：科技处

联系方式：010-62614216

技术成果发布数：1922

邮箱：kjc@ia.ac.cn

适用范围

本成果可以应用于集成电路生产等各种需要精确定位、精确搬运的工业控制场合，大大提高了工作效率和工作精度，大幅度降低废品率，从而提高了经济效益。    

成果内容简介

一、成果概述

      掩模传输系统是集成电路生产过程中光刻机的重要辅助设备，用于将掩模版从掩模版库到光刻机曝光台之间进行输送。集成电路生产的特点，决定了掩模输送系统必须具备高于光刻机的可靠性。集成电路生产的工艺，决定了掩模版放置到曝光台时对位置定位的精度要求很高。该掩模传输控制系统，主要实现对两个版库的控制、掩模机械手的控制以及本系统与尾部系统的信息交互等。其中，版库单元主要用于完成掩模版盒升降，版盒交换；机械手用于将掩模版从掩模版库到光刻机曝光台之间进行输送；与外部系统的信息交换，主要是与上层系统进行控制数据与当前状态的交互。上掩模版时，机械手将掩模版移动到预对准标记与两个四象限检测器对准。机械手向曝光台运动直到掩模版正好处于曝光台镜头上方，通过位于镜头两侧的四象限进行精细预对准，进一步确定掩模版与镜头的位置关系。

二、技术特点

      1、通过控制界携手对掩模版反复平移与旋转，逐步实现掩模版由粗对准达到精细对准；

      2、该成果实现了掩模版传输任务中较高的掩模版定位精度。