行业领域：制造业 —— 其他制造业

专利类型： 发明专利

专利信息： 专利技术

专利号： CN101404307

成熟度： 已有样品

技术合作方式： 其他

技术推广方式： 正在技术推广

技术交易价格： 面议

联系人：沈辉

联系方式：020-84114728

技术成果发布数：1622

邮箱：shenhui1956@vip.163.com

成果内容简介

本发明公开了一种多晶硅太阳电池绒面制作方法,该方法利用激光束在多晶硅片表面密集扫描,使扫描区域内的硅材料发生熔融、气化和溅出反应,在多晶硅片表面形成微米级的凹凸结构,刻蚀后采用化学方法做表面清洗和去除损伤层。采用本发明方法制成的多晶硅片结构可以使入射光在其中多次反射,增加对入射光的吸收,获得良好的表面减反射效果,并且对硅片的损伤影响较小。本发明解决了困扰多晶硅电池的制绒问题,可以获得远小于纯化学制绒的硅片表面反射率,对提高多晶硅太阳电池的光吸收以及光电转换效率有着重要作用。