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一种用于光刻机的浸没控制装置

作者:Admin 发布时间:2020年04月27日11:32:09 841次浏览
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一种用于光刻机的浸没控制装置

行业领域:制造业 —— 其他制造业

专利类型: 发明专利

专利信息: 专利技术

专利号: CN201210103398.2

成熟度: 已有样品

技术合作方式: 完全转让 许可转让

技术推广方式: 正在技术推广

技术交易价格: 面议

联系人:方志仙

联系方式:13957007799

技术成果发布数:1360

邮箱:794379728@qq.com

成果内容简介

项目简介 
本发明提供一种用于光刻机浸没控制装置,该装置为在投影透镜组末端元件和硅片间设置的浸没控制装置,所述的浸没控制装置包括:盖板、外构件、内构件,盖板为环形板,其上由中心向外沿径向依次开有注液口、出液口、进气口;外构件为带有阶梯形状的环形板; 内构件为环形版,其外侧为阶梯形状,内侧为与投影物镜末端元件形状相匹配的锥形,其下部沿径向向外依次开有:出液下环槽、环形均压槽,其上部沿径向向外依次开有扇形槽、注液孔、出液上环槽,其中出液上环槽与出液下环槽通过均布的通孔连接。 
 
技术优势 
本发明通过外构件与内构件的阶梯形状配合,形成浸没控制装置的边缘狭缝密封,解决了 狭缝加工所需精度高、制造困难的问题;此外,狭缝密封是一种理想的线源密封形式, 压力 分布均匀且流动的散射效应也最低,对浸没流场的影响小。本发明中内构件的均压槽内固定弹性元件,解决了液体注入和回收速率不平衡问题:当液体注入多余回收时,流场内压力增大,此时弹性元件在压力作用下向上弯曲,使流场体积增大, 缓解了流场内压力的积累,避免流场压力作用于投影物镜末端元件而影响成像质量;当流场 内注液小于回收时, 流场内液体不足,其压力相应减小,弹性元件向下弯曲使流场体积减小 避免液体不能完全充满流场而影响曝光质量。  
 

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