行业领域：制造业 —— 计算机、通信和其他电子设备制造

专利类型： 发明专利

专利信息： 专利技术

专利号： CN201210496999.4

成熟度： 已有样品

技术合作方式： 其他

技术推广方式： 正在技术推广

技术交易价格： 面议

联系人：上海知识产权交易中心

联系方式：0599-6106002

技术成果发布数：6923

邮箱：pckjdsc@163.com

成果内容简介

本发明涉及通过曝光实现图案化所使用的分子玻璃正性光刻胶组合物以及用于形成光刻胶图案的方法。本发明公开的正性光刻胶组合物包括(A)官能团保护的六元含氮杂环衍生物，其含有酸敏感的官能团保护的酚基；(B)光致产酸剂(Photoacidgenerator，PAG)；和(C)溶剂，其中，所述官能团保护的六元含氮杂环衍生物和光致产酸剂能够溶解在溶剂中。当所述分子玻璃正性光刻胶曝光时，光致产酸剂释放酸，这些酸与酸敏感的官能团反应形成酚基。这些含酚基的六元含氮杂环衍生物在显影液中加速溶解，从而形成特定的光刻胶图案。这种分子玻璃正性光刻胶组合物可以应用在微电子技术领域。